半導體超純水設備常見的工藝流程：
離子交換工藝：原水+石英砂過濾器+活性碳過濾器+精密過濾器+原水箱+陽床+陰床+混床(復床)+純水箱+純水泵+后置精密過濾器+用水點。
反滲透工藝：原水+石英砂過濾器+活性碳過濾器+精密過濾器+原水箱+反滲透設備+混床(復床)+純水箱+純水泵+后置精密過濾器+用水點。
反滲透+edi工藝：原水+石英砂過濾器+活性碳過濾器+精密過濾器+原水箱+反滲透設備+電去離子(EDI)+純水箱+純水泵+后置精密過濾器+用水點。
半導體超純水設備也是采用預處理、反滲透技術、可將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不溶解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。超純水系統設備的脫鹽核心部件是反滲透膜。
半導體超純水設備也被已廣泛應用于：電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、鋼鐵、玻璃清洗用水、半導體工業、精細化工、光學、醫藥用水、透析醫療用水。等領域。
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