高純水水處理設備在光學、電鍍、半導體、微電子、醫療、電池領域中的重要作用日益突出，高純水已成為影響件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一。
高純水設備采用滲透+EDI模塊技術，EDI模塊將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI模塊是將一定數量的EDI單元間用隔板隔開，形成濃水室和淡水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統，成為濃水EDI設備一般以二級反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導率一般是5us/cm-1μS/cm(25℃)之間。EDI純水電阻率可以高達18.2MΩ.cm(25℃)。
高純水水處理設備的工藝流程：原水箱+原水泵+石英砂過濾器+活性炭過濾器+精密過濾器+ro反滲透系統+edi系統+超純水箱。
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